一区二区三区鲁丝不卡,一道本视频一二三区,夜夜爽夜夜叫夜夜高潮漏水,小说区 图片区 综合区免费

產(chǎn)品列表PRODUCTS LIST

首頁 > 技術(shù)與支持 > 高低溫循環(huán)裝置特點、主要用途與常用搭配
高低溫循環(huán)裝置特點、主要用途與常用搭配
點擊次數(shù):2784 更新時間:2019-12-27

用途特點:

高低溫循環(huán)裝置  能夠提供冷源和熱源的循環(huán)裝置,工作范圍廣,適用于制藥、化工、生物、實驗室行業(yè)中連接反應(yīng)釜進(jìn)行制冷、加熱反應(yīng)的設(shè)備,特別是是高低溫體機(jī)SUNDI系列主要功能應(yīng)用于對玻璃反應(yīng)釜進(jìn)行升降溫、恒溫控制。

分為三個系統(tǒng):制冷系統(tǒng)、加熱系統(tǒng)、預(yù)冷系統(tǒng),三個系統(tǒng)可連續(xù)使用,也可分別單獨使用。

高低溫循環(huán)裝置適合在反應(yīng)過程中有需熱、放熱過程控制,線性控制釜內(nèi)物料溫度,可以選擇程序控制模式,導(dǎo)熱介質(zhì)和物料的溫差也可設(shè)定,整個高低溫體機(jī)系統(tǒng)采用全密閉式循環(huán),高溫時不會產(chǎn)生油霧,低溫時不會吸收水分,系統(tǒng)中有膨脹罐,在制冷加熱過程中導(dǎo)熱介質(zhì)熱脹冷縮。

高低溫循環(huán)裝置主要用途:

用于雙層玻璃反應(yīng)釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層反應(yīng)釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、微通道反應(yīng)器冷熱源恒溫控制、小型恒溫控制系統(tǒng)、蒸飽系統(tǒng)控溫、材料低溫高溫老化測試、組合化學(xué)冷源熱源恒溫控制、半導(dǎo)體設(shè)備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制等溫控控制中。

  1、化工、制藥或生物領(lǐng)域雙層及三層反應(yīng)釜的溫度控制。

  2、攪拌罐的溫度控制。

  3、材料測試中的應(yīng)用。

  4、蒸餾系統(tǒng)的溫度控制。

  5、工藝過程中的溫度變化模擬控制。

  6、恒溫控制系統(tǒng)。

  7、半導(dǎo)體設(shè)備的溫度控制。

  8、汽車工藝中熱測試平臺的溫度控制。

  9、真空室的溫度控制。