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Agilent TwisTorr 704 FS渦輪分子泵

簡要描述:

Agilent TwisTorr 704 FS渦輪分子泵采用 TwisTorr 拖動技術和安捷倫懸浮軸承,具有高性能、高可靠性及經濟性。TwisTorr 704 FS 泵*的軸承和干式潤滑劑設計,使得泵無需泵油和維護,能夠以任意方向安裝。可選擇一體式控制器或機架控制器。

型號
更新時間 2020-08-14
訪問次數 1818
Agilent TwisTorr 704 FS渦輪分子泵

Agilent TwisTorr 704 FS 高真空渦輪分子泵采用 TwisTorr 拖動技術和安捷倫懸浮軸承,具有高性能、高可靠性及經濟性。TwisTorr 拖動技術對小分子氣體(如氫氣和氦氣)能提供高壓縮比,從而實現大抽氣量和高前級耐壓,進而能使用更經濟實惠、更小型的前級泵。該技術使得轉子能采用緊湊的設計,變得高效節(jié)能,并能保持較低的工作溫度。安捷倫懸浮軸承系統(tǒng)降低了噪音和振動,并能保證*的軸承工作條件,從而能延長工作壽命,zui大程度減少系統(tǒng)停機時間,并能確保長時間穩(wěn)定的抽氣性能。TwisTorr 704 FS 泵*的軸承和干式潤滑劑設計,使得泵無需泵油和維護,能夠以任意方向安裝??蛇x擇一體式控制器或機架控制器。

Agilent TwisTorr 704 FS渦輪分子泵特性:

創(chuàng)新的 TwisTorr 技術 — 對小分子氣體的高壓縮比實現了高性能和zui小的系統(tǒng)占用空間。

高前級耐壓 — 允許使用更小的前級泵,從而降低了系統(tǒng)成本和尺寸。

安捷倫懸浮軸承系統(tǒng) — 低振動、低噪音和*軸承工作條件可延長泵的使用壽命,從而實現使用維護成本優(yōu)化,zui大程度減少系統(tǒng)停機時間,并保證長時間穩(wěn)定的抽氣性能。

*的軸承和干式潤滑劑 — 免維護、免油,實現任意角度安裝。

“三維”泵控制軟件使靈活性、速度和簡便性達到zui大化,可在泵的操作條件下達到*通量和壓縮性能。

典型渦輪泵應用

安捷倫渦輪分子泵包括集成泵組和多流路泵,其設計旨在實際應用中達到*性能。泵的緊湊型設計滿足工業(yè)中的嚴苛空間要求。渦旋分子泵幾乎不需要維護,并可避免錯誤使用。無論您是終端用戶還是原始設備制造商,安捷倫均可針對您的應用為您提供幫助和支持,或定制適合您的需求的系統(tǒng)。

Agilent TwisTorr 704 FS渦輪分子泵典型渦輪泵應用:

領域詳細說明應用
質譜和分析儀器
  • 針對質譜系統(tǒng)優(yōu)化的全系列泵和控制器
  • 具有多入口泵組的定制泵
  • 低成本、易于使用、高分析性能
  • 對于 GC/MS,提供用于相對低氣體載荷環(huán)境的 1 個真空室和用于分析無機樣品的中等真空接口
  • 對于 LC/MS,需要提供多室、高通量真空系統(tǒng)
  • 對于 ICP-MS,提供多種真空系統(tǒng),包括用于氬氣等重載氣的泵和使用氦氣的碰撞池
  • 對于 TOF 系統(tǒng),需要較小尺寸、高通量和高效的散熱設備
  • 質譜
  • GC/MS
  • LC/MS
  • ICP-MS
  • TOF
科研中的真空應用
  • 非常清潔、可靠和高性價比的 HV 和 UHV
  • 粗真空軸承未暴露于 UHV,降低了污染
  • 高速和高壓縮
  • 可以以任意角度安裝
  • 聯用 Turbo-V 和 TriScroll 干式泵可泵送大量氣體
  • 高能物理
  • 融合技術
  • 一般 UHV 研究
  • 同步光源粒子加速器
工業(yè)真空加工
  • 為薄膜沉積應用而專門設計的集成分子泵解決方案
  • 適用于原始設備制造商和終端用戶的專業(yè)性能
  • 適用于具有預真空鎖或大型內聯連續(xù)系統(tǒng)的單室批量系統(tǒng)和多室系統(tǒng)的泵

薄膜沉積:

  • 玻璃涂層設備(建筑和汽車玻璃,平板顯示器)
  • 薄膜太陽能電池生產(光電)
  • 光學數據介質(CD、DVD、磁光光盤)
  • 磁性存儲介質
  • 表面處理
  • 光學涂層(眼科、精密光電)
  • 膜或箔上的輥式/卷繞涂覆

設備加工:

  • 生產電視機和顯示器顯像管
  • 疏散燈(高速公路照明、投影機)
  • X 射線管和電子設備

一般工藝:

  • 真空爐/冶金
納米技術儀器
  • 分析從有機化合物到半導體晶片等各類物質
  • 全系列的高真空和超高真空泵特別適用于要求嚴苛的 SEM、TEM 和表面分析系統(tǒng)
  • 低振動渦旋泵適用于zui敏感的顯微分析
  • 可快速、無油式排空大型樣品室內的氣體
  • 集成的泵控制器可靈活進行控制,幾乎不生成電磁噪音
  • 非常適合為半導體生產創(chuàng)造合適環(huán)境
  • 高轉速確保能夠以高泵速抽空半導體生產中釋放的輕質氣體(He、H)
  • 符合高速循環(huán)應用的嚴格要求,例如真空裝載鎖
  • 通過對多個渦旋泵聯用一個前級泵,可提高工具的可靠性
  • 聯用 Turbo-V 和 TriScroll 干式泵可泵送大量氣體
  • 安裝于支架上的控制器或一體式控制器允許將電子設備放置于遠處
  • 電子顯微鏡(SEM、TEM)
  • 聚焦離子束系統(tǒng) (FIB)
  • 表面分析
  • 半導體制造

性能指標:

抽速:ISO 160/CF 8 英寸 
N2
He
H2
Ar
660 L/s
640 L/s
480 L/s
625 L/s
 
全轉速氣體流量(使用推薦的推薦前級泵)*環(huán)境溫度 (25 °C)水溫:
(25 °C,50 L/h)
He7.9 mbar L/s
467 SCCM
10.4 mbar L/s
615 SCCM
N24.3 mbar L/s
255 SCCM
6.2 mbar L/s
367 SCCM
Ar1.5 mbar L/s
89 SCCM
3.3 mbar L/s
195 SCCM
(*) 前級泵 11.6 m3/h  
壓縮比與前級耐壓關系*  
N2
He
H2
Ar
> 1E + 11
2E + 08
3E + 06
1E + 11
10 mbar
10 mbar
4 mbar
8.5 mbar
(*) 前級耐壓定義為,在水冷模式下,當渦輪泵仍能產生 100 的壓縮比時的壓力  
采用推薦前級泵時的極限真空< 1 × 10-10 mbar
(< 1 × 10-10 Torr)
 
抽氣口法蘭ISO 160K,ISO 160F,CFF 8 英寸 
前級管道法蘭NW25(NW40 為可選附件) 
推薦的前級泵DS302
IDP10
IDP15
 
工作位置任意 
操作環(huán)境溫度+5 °C 至 +35 °C 
潤滑yognjiu性脂潤滑 
冷卻要求  
風冷空氣溫度由 +5 °C 至 35 °C 
水冷水溫由 +15 °C 至 +25 °C
水流速zui低 100 L/h
 
噪音壓力級別
(全速運行時距離 1 m 處)
(磅):
43 dB(A) 

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